激光电镀技术的优势

【文本】激光电镀是一种新兴的高能束电镀技术，对微电子器件和大规模集成电路的生产和修复具有重要意义。目前，尽管仍在研究激光电镀，激光烧蚀，等离子激光沉积和激光喷涂的原理，但是该技术已经在实际使用中。当在电镀浴中对阴极表面照射连续激光或脉冲激光时，不仅可以大大提高金属沉积速度，而且计算机还可以控制激光束的运动轨迹，从而获得非屏蔽涂层。预期的复杂几何形状。在1980年代，开发了一种新的激光喷射增强电镀技术，该技术将激光增强电镀技术与电镀液喷涂相结合，使激光和电镀液同时在阴极表面射出。传质速度大大超过了激光辐照引起的传质速度。微观搅拌的传质速度达到了很高的沉积速度。激光电镀是经典技术与现代技术的典型结合，是一种新兴的高能束流电镀技术。使用激光技术可以提高金属沉积速度，并将效率提高1000倍。在电镀浴的阴极表面上照射连续激光或脉冲激光时，不仅可以提高沉积速度，而且计算机可以控制激光束的轨迹。获得预期的复杂几何形状的非屏蔽涂层。与普通电镀相比，它的优点是：（1）沉积速度快，如激光镀金可达1mu，m / s，激光镀铜可达10mu，m / s，激光喷涂金镀高达12mu，m / s。 s，激光喷镀铜可以达到50mu，m / s，（2）仅在激光辐照区域发生金属沉积，无需遮挡措施即可获得局部沉积涂层，从而简化了生产工艺，（3）大大提高了键合力，（4）易于实现自动控制，（5）节省了贵金属，（6）节省了设备投资和加工时间。